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德国新帕泰克将参展9月27-29日上海IPB2010国际粉体展

发布时间:2010/9/29   来源:阿仪网   阅读次数:3541   转载:

IPB 2010 第八届国际粉体工业/散装技术展览会暨会议

    时间:2010年9月27-29日
    地点:上海国际展览中心
    地址:上海市兴义路77号

    公司展位号1118,届时将携最新R系列干法激光粒度仪HELOS/RODOS(测试范围0.1-3500μm)、动态粒度粒形分析仪QICPIC(测试范围1-20000μm)、纳米激光粒度仪NANOPHOX(测试范围1-10000nm)、超声衰减粒度仪OPUS(0.01-3000μm),并有中国工程师在现场为您做专业的介绍与解答。 

    德国新帕泰克专利的干法粒度仪HELOS/RODOS,以其“干样干测”、“瞬时分散,瞬时测量”的优势,广泛以用于粉体行业的粒度分析与测量,具有分散效果好、测试速度快、准确性与精度高等优点。

    动态粒度粒形仪QICPIC在分析粒度分布信息的基础上,提供粒形信息,为以颗粒形态为表征的行业与分析研究院提供了包括球形度、长宽比、纤维长度等更多参数的信息。

   纳米粒度仪NANOPHOX使用PCCS的原理,消除多重散射的影响,测试浓度高,准确性好,同时提供稳定性分析,是分析纳米粉体的最佳选择。

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